euv
всего материалов по тегу -
82
Китай создал прототип EUV-установки для производства чипов
По данным Reuters, в Китае в начале 2025 года завершили разработку рабочего прототипа установки для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV)
В Китае стартовало тестирование собственной машины для EUV-литографии
По сообщениям, прототип китайской литографической машины для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) уже проходит испытания
SK hynix и ASML представили систему литографии EUV с высокой числовой апертурой (HNA)
Новое оборудование как ожидается, определит будущее производства DRAM, позволяя создавать более тонкие и плотно упакованные ячейки памяти
SK Hynix готовит переход DRAM 1c на шесть слоев EUV и нацеливается на HNA-технологии
SK Hynix планирует применить шесть слоев EUV в производстве 1c DRAM, что позволит увеличить производительность и выход годных изделий. Компания также готовит почву для внедрения EUV с высокой числовой апертурой в будущих поколениях памяти.
Генеральный директор ASML заявил, что китайская полупроводниковая отрасль отстает на 10-15 лет
Китай, вероятно, достиг предела возможностей старой технологии DUV-литографии.
В России началась разработка 11,2-нм системы EUV-литографии
Россия разрабатывает собственную технологию EUV-литографии с длиной волны 11,2 нм, что отличается от установленного стандарта компании ASML в 13,5 нм
Японская Rapidus приступила к монтажу EUV-оборудования для производства 2-нм чипов
Оно прибывает на остров Хоккайдо по воздуху.
Первый EUV-сканер для выпуска 2-нм чипов будет доставлен в Японию в середине декабря
Не только Intel, Samsung и TSMC интересуются таким оборудованием.
Китайская компания SMEE подала патент на EUV для производства чипов
SMEE, ведущий китайский производитель литографического оборудования, разрабатывает собственную EUV-технологию для производства передовых чипов. Патент охватывает ключевые компоненты установки, включая источник EUV-излучения.
Китайские производители оборудования для выпуска чипов разрабатывают компоненты для EUV-литографии
Точно такие же, как в Нидерландах, но с перламутровыми пуговицами.
Intel поможет японским партнёрам осваивать EUV-литографию
Для этого в стране появится специализированный исследовательский центр.
TSMC подберёт оптимальный момент для начала использования оборудования класса High-NA EUV
Эксперименты с партнёрами начнутся уже в этом году.
Samsung расширяет применение EUV-литографии
Не только при производстве чипов, но и в сегменте памяти.
Micron начнёт применять EUV-литографию при производстве памяти только в этом году
И лишь на уровне экспериментального производства.
ASML задумалась о создании литографических сканеров со сверхвысокой числовой апертурой
И готова унифицировать платформу для снижения затрат и упрощения модернизации оборудования для выпуска чипов.
TSMC может представить 1,4-нм техпроцесс уже в 2027 году
В настоящее время идет его активная разработка, но в приоритете пока следующий 2-нм техпроцесс
Оборудование Canon для печати 5-нм чипов окажется на порядок дешевле изделий ASML
Именно в десять раз, мой внимательный и грамотный читатель.
Китаю на освоение EUV-литографии потребуется не менее четырёх лет
А то и все пять, и это в лучшем случае.
ASML придётся сократить план поставок оборудования для EUV-литографии
В этом убеждён известный отраслевой аналитик.
Завтра в Ирландии начнётся выпуск продукции по технологии Intel 4
Это первый случай применения EUV-литографии в массовом производстве на территории Европы.
Китай в обход санкции Запада приступил к разработке EUV-литографической "пушки"
ASML может начать паниковать: Если Пекин не может построить литографическую машину, он построит литографическую фабрику!
Micron потратит $3,6 млрд на организацию передового производства памяти в Японии
И претендует на получение серьёзных субсидий от властей страны.
TSMC готова сократить заказы на поставку EUV-оборудования ASML
Спрос на компоненты падает, и оборудования для их выпуска нужно меньше.
Нидерланды заявили, что как и США ограничат экспорт техники для производства микросхем в Китай
Правительство Нидерландов объявило о введении контроля за экспортом оборудования для производства микросхем в Китай, спустя несколько недель после достижения соглашения с США о введении ограничений против этой страны. Новые правила будут основываться на существующих ограничениях, которые не позволяю...
Решение о запрете поставок EUV-сканеров ASML в Китай было принято под нажимом США
Об этом позволяет судить документ 2020 года, опубликованный нидерландскими СМИ.
США и Тайвань пытаются сорвать планы Китая по созданию передового полупроводникового производства
Тайвань прекратил поставки в Китай важнейших компонентов для производства микрочипов с использованием EUV-литографии.
Huawei сосздаст свой сканер EUV для производства чипов размером менее 7 нм
Однако его производство может столкнуться с проблемами, вызванными санкциями США
Судя по патентной заявке, Huawei разрабатывает EUV-сканер для выпуска 7-нм чипов
Импортозамещение по-китайски.
На предприятии в Ирландии начало работать оборудование, позволяющее выпускать продукцию по технологии Intel 4
Осталось дождаться начала выпуска процессоров Intel Meteor Lake.
Samsung тоже получит от ASML оборудование для литографии с высокой числовой апертурой
Не хуже Intel и TSMC.
Конкуренты Intel тоже готовы закупать у ASML литографические сканеры нового поколения
Их уже набралось пять штук.
Intel при освоении новых техпроцессов предусматривает «план Б» на случай неудачи
Ранее об этом думали мало.
Intel приступила к монтажу оборудования на предприятии в Ирландии, где будут выпускаться 7-нм компоненты
В новом варианте технология носит обозначение «Intel 4».
Каждый сканер ASML для выпуска чипов по технологии 18A будет стоить компании Intel более $340 млн
А их будет нужно несколько штук на оснащение только одного предприятия.
Intel станет первым покупателем сканера ASML нового поколения
Он понадобится компании для выпуска чипов по технологии 18A.
Пожар на предприятии ASML не вызвал обеспокоенности представителей TSMC
Но нужно ещё дождаться, что скажет сама ASML на отчётном мероприятии.
SK hynix надеется получить возможность поставить передовое оборудование в Китай
Сотрудничество с КНР прерывать не планируется.
К началу 2025 года Intel освоит техпроцесс 18A с новой структурой транзисторов
Догнать и перегнать TSMC!
TSMC задумалась, как сэкономить на EUV-литографии при освоении 3-нм техпроцесса
Нужно поменьше накладывать и подороже продавать.
SK hynix приступила к массовому производству памяти с использованием EUV
И четвёртого поколения 10-нм технологии.
Очередная революция в EUV-литографии откладывается до 2025 года
ASML снова подводит клиентов.
Один из клиентов ASML готовится увеличить количество слоёв с EUV в два раза
Неужели Intel? Вряд ли.
EUV всему голова: Intel пояснила, что помогло починить 7-нм техпроцесс
Пока решались проблемы с 10-нм технологией, EUV созрел сам собой.
Вице-президент ASML: 7-нанометровая технология Intel близка к 5-нанометровой TSMC и Samsung
Производственные требования и стандарты Intel гораздо строже.
Выручка ASML будет сильно зависеть от американских санкций против Китая
И ситуации с пандемией.
Японские производители литографического оборудования рассчитывают удвоить выручку через три года
Миграция на EUV-литографию должна их озолотить.
Новый зампред SMIC попробует договориться о поставках EUV-оборудования
В конце концов, он наработал связи с ASML ещё в бытность операционным директором TSMC.
TSMC уже разместила заказ на поставку 13 EUV-сканеров в следующем году
Это более чем треть производственного плана ASML на текущий год.
Samsung наводит мосты с ASML для улучшения ситуации с EUV-литографией
Мосты эти расположены в Амстердаме.
Сейчас обсуждают