Появилась информация, что китайский технологический гигант Huawei подал патентную заявку на разработку сканеров экстремального ультрафиолета (EUV) для использования в процессе производства собственных полупроводников. Эта новость появилась на фоне растущей напряженности между Huawei и правительством США, которое в последние годы наложило на компанию ряд санкций. Согласно UDN, Huawei подала патент, который распространяется на весь сканер EUV, включая источник света EUV 13,5 нм, зеркала, литографию для печатных схем и соответствующей системой управления. Хотя подача заявки на патент — это не то же самое, что создание точного сканера EUV, она может позволить Китаю производить класс микросхем ниже 7 нм и иметь собственное производство полупроводников, несмотря на постоянно усиливающиеся санкции США.

 Разработка сканеров EUV является важной вехой для Huawei и полупроводниковой промышленности. Однако прогрессу компании в этой области могут помешать санкции правительства США, которые ограничили доступ Huawei к определенным технологиям и рынкам. Важно отметить, что китайская SMIC также хотела начать производство EUV на основе сторонних инструментов, однако от этих планов пришлось отказаться, когда вступило в силу Вассенаарское соглашение, запрещающее продажу передовых инструментов китайским компаниям.