Китайская компания SMEE подала патент на EUV для производства чипов

Блоги

14 сен, 16:55 Gorovic

SMEE, ведущий китайский производитель литографического оборудования, разрабатывает собственную EUV-технологию для производства передовых чипов. Патент охватывает ключевые компоненты установки, включая источник EUV-излучения.

Источник изображения: ASML

Несмотря на экспортные ограничения, Китай не оставляет попыток наладить собственное производство передовых чипов. Как сообщает издание Tom's Hardware со ссылкой на осведомленные источники, компания Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) подала заявку на патент по установке оборудования для EUV-литографии.

В настоящий момент единственным в мире производителем EUV-установок является голландская компания ASML, которая не может поставлять свое оборудование в Китай из-за действующих санкций. Однако EUV-литография является ключевой технологией в цепочке производства современных процессоров без которой Китай не сможет производить передовые чипы.

Патент SMEE, поданный в марте 2023 года, описывает «генераторы экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения и литографическое оборудование». Судя по описанию, компания пытается запатентовать ключевой компонент EUV-установки, представляющий из себя источник EUV-излучения на основе лазерной плазмы (LPP). Этот источник использует CO2-лазер для создания плазмы из микроскопических капель олова, излучение которой в дальнейшем фокусируется специальным зеркалом.

SMEE, являясь ведущим китайским производителем литографического оборудования, в настоящее время выпускает установки для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV), наиболее совершенная из которых SSX600 позволяет создавать чипы по технологическим нормам 90, 110 и 280 нм. В 2022 году SMEE заявила о планах продемонстрировать установку, способную производить чипы по нормам 28 нм, однако неизвестно, началось ли их серийное производство.

Появление патента SMEE можно расценивать как серьезный прогресс Китая в области EUV-литографии. И хотя нет данных о том, когда компания сможет создать промышленный образец EUV-установки для выпуска чипов в больших объёмах, её стремление к достижению технологической независимости очевидно. Отметим, что ранее, в 2022 году, патент на EUV-системы также подала компания Huawei, что также указывает на попытки Китая создать независимую полупроводниковую промышленность и снизить зависимость от западных стран.