В условиях жестких технологических санкций китайская полупроводниковая промышленность оказалась в сложном положении. По оценке генерального директора ASML Кристофа Фуке, отставание Китая от западных производителей в этой критически важной отрасли составляет от 10 до 15 лет, и этот разрыв может увеличиться. Это громкое заявление подчеркивает растущую технологическую пропасть, образовавшуюся в результате усиления санкционного давления со стороны США, ограничивающего доступ китайских производителей к передовым технологиям производства микросхем. В сложившихся условиях китайские технологические гиганты, столкнувшись с невидимыми барьерами на пути к современным полупроводниковым разработкам, вынуждены искать нестандартные решения, опираясь на отечественное, но уже устаревающее оборудование. Несмотря на первоначальные опасения относительно скорого преодоления введенных ограничений, руководитель ASML Кристоф Фуке выразил уверенность в том, что без доступа к критически важным технологиям, китайская полупроводниковая индустрия оказалась отброшена на десятилетие назад.
Главным фактором отставания является отсутствие у китайских производителей доступа к EUV (экстремальной ультрафиолетовой) литографии – технологии, необходимой для производства самых современных микросхем с топологическими нормами менее 5 нанометров. Вместо этого, китайским компаниям приходится использовать DUV (глубокую ультрафиолетовую) литографию – технологию предыдущего поколения, возможности которой практически исчерпаны. Компания ASML, доминирующий игрок на рынке литографического оборудования, закономерно оказалась в эпицентре торговых ограничений, инициированных Соединенными Штатами.
Под давлением американского правительства, Нидерланды, где базируется ASML, с 2020 года ввели ограничения на поставки своей продукции в Китай. Дальнейшее ужесточение этих мер серьезно осложнило китайским компаниям процесс обновления и расширения производственных мощностей. В недавнем интервью, генеральный директор ASML Кристоф Фуке подчеркнул, что отсутствие EUV-систем практически лишает Китай возможности конкурировать с западными производителями на переднем рубеже полупроводниковых технологий. "Запрет на экспорт EUV отбросит Китай на 10–15 лет назад по сравнению с Западом", – заявил Фуке голландскому изданию NRC, акцентируя критическую значимость данной технологии. Примечательно, что до недавнего времени ASML сохраняла возможность поставки в Китай DUV-систем, таких как Twinscan NXT:2000i. Китайская компания SMIC смогла адаптировать это оборудование для производства 7-нанометровых чипов, а по некоторым данным, существуют разработки и 5-нанометровых технологий. Однако, даже такие достижения не позволяют китайским компаниям, например, Huawei, ранее занимавшей лидирующие позиции на рынке смартфонов, разрабатывать устройства, полностью соответствующие современным требованиям к производительности. Флагманские модели, такие как Mate 70, вынуждены использовать 7-нм чипы SMIC, что является ярким примером действия американских санкций.
Учитывая текущую политическую конъюнктуру в США, где нет предпосылок для смягчения ограничительных мер, перспективы экспорта EUV-систем ASML в Китай представляются крайне маловероятными. Это обстоятельство подтолкнуло китайское правительство к форсированию разработок собственной технологии EUV-литографии. Однако, как отмечает сам Фуке, этот путь будет долгим и сложным. Компании ASML потребовалось два десятилетия интенсивных исследований и разработок, чтобы достичь текущего уровня развития EUV-технологий. И хотя часть этих знаний сегодня находится в открытом доступе, глава ASML полагает, что оценка в 10–15 лет является оптимистичной для достижения Китаем сопоставимых результатов. К тому моменту ASML, вероятно, уже совершит переход к "High-NA" EUV-литографии – еще более продвинутой технологии.
Следует отметить, что несмотря на существующие ограничения, Соединенные Штаты продолжают настаивать на ужесточении контроля, добиваясь от ASML и правительства Нидерландов прекращения ремонта и технического обслуживания уже поставленного в Китай DUV-оборудования. Однако ASML стремится сохранить репутацию и контроль над своим оборудованием. Полный уход с китайского рынка, по мнению компании, может спровоцировать SMIC и другие китайские предприятия на активное изучение и копирование технологий ASML. Существует также опасение, что Китай сможет самостоятельно разработать и начать производство DUV-установок в более короткие сроки, чем прогнозируется, что существенно укрепит позиции отечественных производителей чипов и снизит их зависимость от западных компаний.
