литография
всего материалов по тегу -
56
Китайский стартап Prinano печатает фотонные чипы без литографии и экономит 90%
Китайский стартап Prinano отказался от оптической литографии при производстве фотонных чипов. Вместо этого компания использует нанопечатную литографию.
«Микрон» должен сделать до 2029 года высокоточный оптический сканер для создания микросхем
Проект стоимостью 1,5 млрд рублей получил название «Лучник», и он должен копировать американское оборудование Archer 10 XT
Китай создал прототип EUV-установки для производства чипов
По данным Reuters, в Китае в начале 2025 года завершили разработку рабочего прототипа установки для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV)
В Китае стартовало тестирование собственной машины для EUV-литографии
По сообщениям, прототип китайской литографической машины для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) уже проходит испытания
В России представили план по производству собственного литографического оборудования
Отечественные учёные намерены запустить 10-нанометровое производство к 2036 году
В России разрабатывают литограф, который будет почти вдвое дешевле импортных аналогов
В ЗНТЦ активно работают над созданием литографической машины, которая сможет производить от 100 до 140 пластин в час
Samsung внедрит улучшенный 2-нм техпроцесс SF2P+ в течение двух лет
Samsung сосредотачивает усилия на доводке текущих литографических технологий, отложив запуск 1,4-нм техпроцесса. Компания делает ставку на стабильность и производственный выход, а не на гонку за наиболее "тонким" техпроцессом.
TSMC пока не готова инвестировать $400 млн в оборудование ASML для 1,4 нм
TSMC пока не планирует закупать новейшие литографические машины ASML стоимостью $400 млн. Компания считает, что текущее оборудование справится с выпуском чипов по технологии 1,4 нм.
2-нм чип MediaTek завершит стадию tape-out в сентябре 2025 года, коммерческий запуск отложен на год
MediaTek обозначила сроки перехода к 2-нм техпроцессу: проектирование стартует в сентябре 2025 года, готовый продукт появится к концу 2026. Такое решение дает компании дополнительное время на доработку и выравнивание поставок.
Новый китайский твердотельный лазер глубокого ультрафиолета может изменить производство микросхем
Этот лазер использует кристаллы и оптику, представляя собой альтернативу традиционным газовым эксимерным лазерам.
Micron анонсировала память DDR5-9200
Флагманским продуктом нового производственного процесса 1Y стала 16-гигабитная (2 ГБ) микросхема DDR5, способная передавать данные со скоростью 9200 МТ/с при стандартном напряжении 1,1 В
ASML готовит к отгрузке литографическую установку EXE:5200 нового поколения
ASML собирается отгрузить первую установку литографии второго поколения EXE:5200. Это устройство станет важным шагом в развитии технологий массового производства полупроводников.
Генеральный директор ASML заявил, что китайская полупроводниковая отрасль отстает на 10-15 лет
Китай, вероятно, достиг предела возможностей старой технологии DUV-литографии.
В России началась разработка 11,2-нм системы EUV-литографии
Россия разрабатывает собственную технологию EUV-литографии с длиной волны 11,2 нм, что отличается от установленного стандарта компании ASML в 13,5 нм
Zeiss приобретает литографический бизнес Beyond Gravity для расширения производства
Компания Zeiss объявила о завершении сделки по приобретению отдела литографии Beyond Gravity. Это расширение позволит улучшить разработки и производство в сфере полупроводников.
TSMC получит первую систему High-NA EUV для исследований
Высокая цена High-NA EUV систем препятствует их более широкому использованию в производстве полупроводников, но TSMC получит первую систему High-NA EUV от ASML с существенной скидкой.
Samsung готовится к запуску первой машины High-NA EUV для конкуренции с TSMC
Samsung планирует получить свою первую машину для литографии High-NA EUV к концу 2024 года, что позволит компании усилить свои позиции на рынке полупроводников. Эта новинка поможет южнокорейскому гиганту лучше конкурировать с TSMC, ведущим производителем в этой области.
ASML и Imec объявили о прорыве в области литографии с высоким числом апертуры High-NA
Обе компании объявили в среду, что они разработали новую отраслевую логику и структуру DRAM с помощью литографического инструмента Twinscan EXE:5000 EUV с числовой апертурой 0,55, также известного как high-NA.
Западные эксперты считают, что российское производство чипов отстаёт от американского на 20 лет
Уже к 2030 году РФ планирует производить чипы по технологии 14-нм.
ASML хочет расширить производство за пределами Нидерландов
Такой ход событий не устраивает правительство страны, которое хочет оставить производство на своей территории, а значит и налоговые отчисления
Intel потеснит TSMC на рынке литографии, выпуская чипы даже для AMD и NVIDIA
"Синий лагерь" не против производить продукцию в том числе и для своих конкурентов
Intel получила от ASML первый инструмент для производства микросхем High-NA EUV
Intel стала первым первопроходцем революционной новой технологии литографии
TSMC может представить 1,4-нм техпроцесс уже в 2027 году
В настоящее время идет его активная разработка, но в приоритете пока следующий 2-нм техпроцесс
В третьем квартале китайские производители чипов прибрали к рукам всё оборудование, которое оказалось ненужным
ASML и Lam Research этому были только рады.
Китай получит свой первый 28-нм литографический сканер в конце 2023 года
Производителем выступит китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE)
Китай в обход санкции Запада приступил к разработке EUV-литографической "пушки"
ASML может начать паниковать: Если Пекин не может построить литографическую машину, он построит литографическую фабрику!
США усиливают экономические санкции, стараясь замедлить рост китайской литографии
США вводят новые санкции с целью сдержать прогресс Китая в производстве чипов, задерживая его литографические технологии на пять поколений техпроцессов
Служебная информация ASML была похищена китайским сотрудником из корпоративной базы данных
Пока сложно оценить, как это повлияет на бизнес компании.
Huawei сосздаст свой сканер EUV для производства чипов размером менее 7 нм
Однако его производство может столкнуться с проблемами, вызванными санкциями США
Samsung попытается привлечь заказы со стороны NVIDIA, Intel и AMD современными техпроцессами
Основной конкурент корейской корпорации - тайваньская TSMC
Samsung тоже получит от ASML оборудование для литографии с высокой числовой апертурой
Не хуже Intel и TSMC.
Intel при освоении новых техпроцессов предусматривает «план Б» на случай неудачи
Ранее об этом думали мало.
В России разработают собственные литографические сканеры
Непосредственно их производство планируется начать к 2025-2026 году
При выборе места для предприятий Intel в Европе компания будет рассчитывать на субсидии
По этой причине торопиться с заявлениями она не хочет.
ASML рассказала о последствиях пожара на заводе в Берлине
На выполнение производственного плана возгорание повлиять не должно
Власти американского города Тейлор пытаются привлечь Samsung к строительству предприятия налоговыми льготами на 30 лет
Уводят партнёра из-под носа у соседей.
В AMD сравнили успех Apple M1 с разработкой архитектуры Zen 3
И признали используемые литографические технологии самыми продвинутыми в мире.
Для освоения 2-нм техпроцесса Евросоюз за три года инвестирует €145 млрд в полупроводниковую отрасль
Есть передовые литографические технологии, но нет крупного производства микроэлектроники.
Технологические проблемы Intel подвели Nikon, теперь компания сократит 10% персонала
Литографическое оборудование теперь требуется Intel в меньшем объёме.
Доля 7-нм продукции в выручке TSMC осталась на прежнем уровне
Квартальный отчёт показал, что у компании всё не так плохо.
Коронавирус помешает TSMC вовремя начать монтаж оборудования для производства 3-нм продукции
Зато с производством 5-нм изделий задержек возникать не должно.
NVIDIA призналась, что когда-нибудь перейдёт с 12-нм техпроцесса
А пока и так хорошо.
Власти США хотят контролировать выпуск всех компонентов для Huawei на американском оборудовании
Чтобы муха не пролетела!
AMD никогда не рассчитывала обогнать Intel в сфере литографии
Оно так само получилось.
Даже после перехода Intel на 7-нм техпроцесс 10-нм технология будет живее всех живых
Компания сбилась со счёта, пытаясь рассортировать поколения 10-нм технологии.
AMD считает, что Intel когда-нибудь догонит её в сфере литографии
Но бояться этого совершенно не следует.
Генеральный директор Intel уверовал в шесть столпов Кодури
Жить стало лучше, жить стало веселей.
GlobalFoundries призывает блокировать поставки продукции клиентов TSMC в США и Европу
NVIDIA и Apple могут пострадать в числе многих.
В рамках 5-нм техпроцесса EUV-литография будет использоваться гораздо активнее
Популярность технологии растёт.
