Источник изображения: ASML
Компания TSMC опережает Intel в массовом производстве инструментов литографии EUV, но одновременно отстает от своего американского конкурента в области использования передовой технологии литографии High-NA EUV. Intel уже использует машину High-NA EUV от ASML для исследовательских целей и планирует внедрить эту технологию в производство в ближайшие два-три года. TSMC, по данным Tom's Hardware, только в этом месяце начнет устанавливать свою первую машину High-NA EUV для исследований и разработок.
Первая система High-NA EUV от ASML, модель Twinscan EXE:5000, предназначена специально для исследовательских целей и будет установлена в глобальном исследовательском центре TSMC в Тайване. Компании потребуется несколько месяцев на сборку и калибровку машины, прежде чем она сможет начать тестирование технологии производства полупроводников следующего поколения в своем исследовательском центре. При этом будущие производственные процессы TSMC — N2 (2-нм класс) и A16 (1.6-нм класс) — будут полностью полагаться на традиционное оборудование EUV, оснащенное оптикой с числовой апертурой 0.33 (Low-NA).
Самая ранняя возможность для TSMC использовать инструменты High-NA EUV с оптикой с числовой апертурой 0.55 будет с технологией A14 (1.4-нм класс) где-то в 2028 году или позже, хотя компания еще не подтвердила это. Однако, поскольку инструменты High-NA EUV сокращают размер ретиклов вдвое, их использование приведет к дополнительным сложностям для разработчиков чипов и производителей, что, возможно, объясняет, почему TSMC не спешит внедрять High-NA EUV инструменты.
Еще одной причиной, по которой TSMC не спешит переходить на инструменты High-NA EUV, является их высокая стоимость. Как отметил ранее в этом году Кевин Чжан (Kevin Zhang), отвечающий за разработку новых производственных технологий в TSMC, ему нравятся характеристики инструментов High-NA EUV, но не их цена.
Tom's Hardware отмечает, что каждый инструмент High-NA EUV стоит около $400 миллионов, но президент TSMC, С.С. Вэй (C.C. Wei), лично договорился о скидке почти на 20%. Такое снижение цены было достигнуто путем объединения нескольких единиц оборудования ASML. Учитывая, что TSMC уже является ведущим пользователем систем EUV литографии, занимая около 65% мирового производственного потенциала EUV, ASML заинтересована в заключении сделок с этой компанией как одним из своих крупнейших клиентов.
