В интервью подкасту The All-In генеральный директор компании Nvidia Дженсен Хуанг заявил, что Китай может разработать собственное передовое литографическое оборудование уже к 2030 году. По его мнению, Поднебесная обладает самыми высокими темпами развития в технологической сфере. В связи с этим она может очень быстро сократить отставание от западных лидеров индустрии.
Источник изображения: Nvidia
Однако, согласно прогнозу UBS, в ближайшие пять лет Китай может добиться крупномасштабного производства иммерсионных систем DUV. При этом китайское EUV-оборудование вряд ли появится ближайшие десять лет. Всё же аналитики банка отмечают серьёзный прогресс Поднебесной в в области источников света и лазерных подсистем. По их мнению, рано или поздно Китай всё же придёт к поставленной цели.
Данная отрасль является самым серьёзным препятствием Поднебесной в достижении технологического лидерства. Из-за американских санкций китайские производители чипов не имеют возможности закупать передовое EUV-оборудование у ASML, в связи с чем местные компании ограничены 7-нанометровым техпроцессом. В это же время западные техногиганты уже массово переходят на 2-нанометровое производство.
