ASML, производитель литографического оборудования, готовится к поставке первой машины нового поколения High NA EUV литографии, известной как EXE:5200. Это событие крайне важно для индустрии полупроводников, поскольку новая модель обещает улучшенные характеристики.

EXE:5200 представляет собой усовершенствованную версию предыдущей модели EXE:5000. Президент компании Кристоф Фуке отметил, что новая установка более адаптирована для массового производства. Это означает, что она сможет обрабатывать более сложные процессы, включая технологии с пост-2-нм логикой, что особенно актуально в условиях растущих требований к производительности.

Компания также достигла значительного прогресса в производительности предыдущей модели NXE:3800E, которая теперь может обрабатывать 220 пластин в час. Это увеличение на 100% по сравнению с предыдущим поколением демонстрирует успех конструктивных улучшений, внедренных в новые устройства.

Фуке подчеркнул, что EXE:5200 будет использоваться как «ранний инструмент» для проверки зрелости технологии, что важно для дальнейшего развития литографических систем.