Российские учёные активно работают над созданием новой литографической машины, которая станет ключевым элементом для развития отечественной электроники. Основной целью проекта является максимальное использование доступных ресурсов и снижение стоимости оборудования по сравнению с зарубежными аналогами.
Новый российский литограф разрабатывается Центром коллективного пользования научным оборудованием «ЗНТЦ» («Центр нанотехнологий»). Установка предназначена для реализации процессов литографии с размером элемента 130 нм и поддерживает пластины диаметром 150 и 200 мм. Длина волны используемого излучения равна 248 нм. Литограф рассчитан на работу с материалами Si, SOI, SiN/SiO₂.
По плану центра разработки предполагается поэтапное совершенствование технологии:
- К 2027 году планируется переход на уровень 90 нм.
- К 2030 году ожидается освоение уровня 65 нм.
Это позволит российским производителям выпускать конкурентоспособные чипы для широкого спектра применений.
Установленная технология специально адаптирована для изготовления фотонных интегральных схем (ФИС). Благодаря своей эффективности установка обеспечивает существенную экономию затрат. Так, стоимость комплекта фотошаблонов для схемы на уровне 130 нм составляет примерно $750 тысяч, тогда как аналогичный комплект для 90-нм технологии обойдется в $1 миллион. Разработка и производство активных элементов ФИС на 130 нм позволяет экономить около $3–5 миллионов на каждый проект.
Кроме того, важным преимуществом является высокий процент выхода качественных изделий. Показатель выхода годных для технологий на 130 нм достигает 75–85%, что значительно превышает показатели для более тонких технологических норм (65–90 нм), где этот показатель находится на уровне 60–70%. Таким образом, новые российские устройства обеспечивают большую устойчивость к процессу и снижают риск брака продукции.
Прогнозируется значительный рост рынка фотонных интегральных схем в России. Согласно ожиданиям экспертов, к 2034 году объем рынка достигнет $4,9 миллиардов, причем значительная доля ($2,9 миллиарда) будет обеспечиваться технологиями, использующими процессы на уровне 130 нм и более.
Разработка новых отечественных решений обеспечит значительную долю внутреннего рынка, снизив зависимость от зарубежных поставок и увеличив привлекательность инвестиций в российскую микроэлектронику.
Планируется, что новая машина поступит в серийное производство в ближайшие три года. Её ориентировочная стоимость составит около $6 миллионов, что значительно ниже цен на аналогичные аппараты от крупных западных компаний. Для сравнения, аналогичные установки от голландской фирмы ASML оцениваются в $15 миллионов, от японской Nikon — в $12 миллионов, а от американской Canon — в $10 миллионов.
