duv
всего материалов по тегу -
3
Китай добился успеха в создании 3-нм чипов без использования передового оборудования для литографии
До массового внедрения результатов научного прорыва в производство ещё далеко, однако КНР постепенно движется в направлении обеспечения полной самодостаточности.
Китайские литографы отстают от нидерландской ASML по-прежнему на четыре поколения
Тем не менее прогресс у Китая всё-таки присутствует
Генеральный директор ASML заявил, что китайская полупроводниковая отрасль отстает на 10-15 лет
Китай, вероятно, достиг предела возможностей старой технологии DUV-литографии.
