Долгое время Китай пытался найти способ решить эту проблему, и, кажется, он наконец-то добился успеха. Кремниевая фотоника использует свет в инфракрасном спектре для передачи данных, что позволяет обеспечить более высокую пропускную способность при меньшей мощности, чем традиционные чипы. Этот метод использует существующие технологии производства, что делает его привлекательным вариантом для преодоления ограничений, наложенных на Китай.
Экстремальная ультрафиолетовая (EUV) литография - это сложный процесс изготовления полупроводниковых чипов, который использует ультрафиолетовое излучение высокой частоты, вместо обычной оптической маски, чтобы достичь более мелких размеров структур на чипе. Технология EUV литографии является ключевой для производства более быстрых и эффективных чипов, и Соединенные Штаты долгое время контролировали ее разработку и экспорт.

Хотя США все еще остается лидером в области чипов, Китай стремится догнать своих конкурентов и стать мировым лидером в этой области. Если Китай сможет продолжить развитие и коммерциализацию этой технологии, его экономика и полупроводниковая промышленность могут заметно выиграть от этого прорыва.