Китай продолжает развивать собственную полупроводниковую отрасль в условиях ограничений. Новым шагом стало тестирование оборудования для фотолитографии местного производства.

SMIC проверяет DUV-установку, созданную шанхайским стартапом Yuliangsheng. Ранее компания зависела от поставок голландской ASML, но экспортные ограничения вынудили искать альтернативы.

Существующие санкции позволяют Китаю получать только устаревшие модели DUV-оборудования. На таком оборудовании SMIC уже освоила производство по нормам 7 нанометров.

Новая отечественная установка потенциально может обеспечить переход к более сложным техпроцессам. В отчетах утверждают о возможности достижения 5 нм с помощью многократного формирования шаблонов.

Правда, такой метод имеет серьезный недостаток — крайне низкий процент годных чипов. Ошибки совмещения накапливаются при многократной экспозиции, что снижает выход продукции.

SMIC ранее уже демонстрировала готовность жертвовать процентом выхода ради технологического прогресса. Высокий спрос на чипы для ИИ со стороны китайских компаний стимулирует развитие местного производства.