Платим блогерам
Блоги
Fantoci
Компания заявляет, что ее новая технология позволит сократить время производства одного фотошаблона с двух недель до одного дня.

реклама

Генеральный директор Nvidia Дженсен Хуанг представил совершенно новую технологию, предназначенную для ускорения производства чипов, в своем программном выступлении на GTC во вторник. Система называется cuLitho и предназначена для значительного сокращения времени и ресурсов, необходимых для создания фотошаблонов при производстве кремниевых пластин. Благодаря этой технологии Nvidia сможет внедриться непосредственно в цепочку поставок процессоров и графических процессоров для производства.

реклама

В своем выступлении Хуан сказал, что современные технологии, используемые для изготовления фотошаблонов, «достигли пределов физических возможностей». В ответ Nvidia создала программную библиотеку cuLitho, чтобы перенести вычислительную нагрузку по созданию фотошаблонов на графические процессоры Nvidia. В заявлении компании говорится, что 500 машин Nvidia DGX H100 могут выполнять работу, которую обычно выполняют 40 000 систем на базе центральных процессоров. Каждый DGX H100 имеет восемь графических процессоров Nvidia Hopper, а сейчас их 8000. В целом, по словам Nvidia, cuLitho может позволить компании увеличить количество шаблонов, которые она может производить, в 3–5 раз при одновременном снижении необходимой мощности до 9 раз.


Использование более мощных компьютеров для выполнения алгоритмов проектирования микросхем известно как вычислительная литография. Сообщается, что это самый ресурсоемкий компонент проектирования чипов, и такие компании, как TSMC, круглосуточно и без выходных запускают массивные центры обработки данных для создания фотошаблонов. Хотя эти процессы становятся меньше, сложность многократно увеличивается для предотвращения оптических искажений. Nvidia заявляет, что ее новая программная библиотека позволит быстрее перейти к продвинутым узлам, включая 2-нанометровые технологии и ниже. По словам Nvidia, хотя в краткосрочной перспективе это позволит ускорить производство шаблонов, в конечном итоге это приведет к увеличению выхода продукции, более высокой плотности и литографии с использованием искусственного интеллекта.

Компания работала над этим проектом четыре года, тесно сотрудничая с производителями микросхем, включая TSMC, ASML и Synopsis. Все три компании согласились интегрировать cuLitho в свои конвейеры по производству кремния. Несмотря на заявления компании о том, что литография на базе искусственного интеллекта уже не за горами, в настоящее время она не является частью cuLitho. Как сообщает Вивек Сингх, вице-президент группы передовых технологий Nvidia, сейчас речь идет только о чистой мощности, но в будущей версии рассматривается возможность использования искусственного интеллекта.

Источник: extremetech.com
10
Показать комментарии (10)

Популярные новости

Сейчас обсуждают