Компания Canon недавно представила свой новый инструмент для наноимпринтной литографии (NIL), который может конкурировать с инструментами для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии компании ASML и использоваться для производства микросхем в технологическом процессе класса 5 нм. Однако, в отличие от EUV-литографических машин ASML, компания Canon планирует установить на свой инструмент более доступную цену, что позволит небольшим чипмейкерам со скромными ресурсами получить доступ к передовому производству микросхем.

Исполнительный директор Canon, Фуджио Митараи, подтвердил в интервью для Bloomberg, что цена на инструмент Canon будет значительно меньше, чем на EUV-литографические машины ASML.

Он также отметил, что хотя наноимпринтная технология, вероятно, не обгонит EUV, она создаст новые возможности и спрос на рынке. Компания уже сейчас получает множество запросов от потенциальных заказчиков.

Современные EUV-системы с числовой апертурой 0,33 стоят свыше $150 млн., в то время как Canon планирует установить цену на свой инструмент для NIL-литографии около $15 млн. Это значительно снизит порог вхождения на рынок для небольших компаний, которые теперь смогут выпускать микросхемы на передовых производственных узлах. Несмотря на это, окончательная цена инструмента еще не определена, и Canon не рассчитывает, что наноимпринтная литография полностью вытеснит технологии EUV и DUV.