Atum Works, американский стартап, заявил о создании технологии наномасштабной 3D-печати, которая может изменить подход к производству микрочипов. Компания утверждает, что ее метод способен сократить затраты на 90% по сравнению с традиционной литографией. Однако пока технология не годится для передовых процессоров — ее возможности соответствуют уровню 90-нанометровых чипов, выпускавшихся два десятилетия назад.  

Современные полупроводниковые фабрики используют EUV-литографию с разрешением до 2 нанометров, тогда как разработка Atum Works работает в пределах 100 нанометров. Разница огромна, но для некоторых задач этого достаточно. Технология позволяет печатать сложные трехмерные структуры, включая межсоединения и компоненты для фотоники, без многоэтапного травления и нанесения масок.  

Пока Atum Works фокусируется на нишевых применениях — упаковке чипов, датчиках и нелогических элементах. Компания уже ведет переговоры с первыми клиентами, включая Nvidia, с которой подписала соглашение о сотрудничестве. Первые коммерческие продукты могут появиться уже в этом году.  

Хотя технология не заменит EUV-литографию в производстве CPU и GPU, она предлагает альтернативу для менее требовательных компонентов.