Российские компании активно развивают свои технологические возможности для производства чипов. Одним из таких шагов в этом направлении стало создание опытного образца эксимерного лазера компанией «Лассард». Данный лазер предназначен для использования в литографическом оборудовании.

По словам разработчиков лазера, новое оборудование позволит российским компаниям производить чипы с использованием 350-нанометрового, а в дальнейшем и 130-нанометрового техпроцессов. Заместитель министра промышленности и торговли России Василий Шпак также отметил, что в перспективе ожидается освоение еще более передовых технологий, таких как 90-нм и 65-нм техпроцессы.

Тестовые испытания нового оборудования запланированы на 2025 год, а серийное производство новых лазеров для литографов планируется начать уже с 2026 года. Уже есть и потенциальные заказчики среди крупнейших российских производителей электроники и компонентов, включая компанию «Микрон».

Стоит отметить, что Россия имеет все шансы стать одной из немногих стран в мире, где будет налажено собственное производство лазеров для литографов. На данный момент подобные технологии развиваются только в Японии и США.