Антироссийские санкции доказали, что США будет использовать любые доступные инструменты в качестве оружия. Многие аналитики полагают, что такой путь ошибочен, поскольку технологии должны служить всему человечеству, но в Белом доме на такие вещи смотрят под другим углом. Трамп намерен продолжить давление на Китай, а значит торговая война между двумя странами продолжится. При этом Америка контролирует основных производителей чипов и устройств, необходимых для выпуска полупроводниковой продукции. Китаю остаётся только пытаться форсировать сроки реализации национальных проектов, но сделать это намного сложнее чем кажется. Причина в том, что все современные технологии не являются только европейскими, американскими, китайскими или южнокорейскими. Для создания литографов потребовалось время и усилия тысяч инженеров со всего мира, а реализовать нечто подобное своими силами – это крайне сложная задача.
Учитывая тот факт, что США не планируют сворачивать ограничительные санкции, выхода у КНР нет, как нет его и у России. На этом фоне заметна активизация российских инженеров, которые занимаются освоением технологий в авральном режиме. Минпромторг запустил целую серию проектов и строит планы по открытию производственных мощностей на зрелых технологических узлах. Как стало известно, в рамках программы импортозамещения Минпромторг запускает проект разработки гелий-неоновых лазеров. Регулятор объявил соответствующий тендер, в ходе которого будет налажено производство высокоточных гелий-неоновых лазеров и фотоприемников для систем позиционирования оборудования. Подобные технологии активно используются для выпуска чипов по зрелым 65-нм нормам. Согласно озвученным данным, проект нацелен на создание технологий, которые заменят ключевые компоненты производства. В настоящее время всё это закупается за границей, но санкции осложнили доступ России к технологиям, а в результате принято решение создать собственные аналоги. Речь идёт о лазерах и фотоприёмниках американской компании Keysight, которые уже много лет используются в литографическом оборудовании.
Эксперты поясняют, что гелий-неоновые лазеры длиной волны 632-нм, которые и планируют разработать российские инженеры, играют ключевую роль в системах интерферометрического позиционирования. Такие системы обеспечивают сверхточное управление положением элементов оборудования при работе с полупроводниковыми пластинами. Учитывая чрезвычайно высокую точность современного оборудования, низкое качество лазеров будет приводить к высокому проценту брака. Таким образом потребуется создать продукт, которые не будет уступать аналогам зарубежного производства. Отметим, что в литографическом процессе обычно используются эксимерные лазеры с длинами волн 355-нм, 248-нм или 193-нм. При этом разработка российских инженеров сфокусируется именно на гелий-неоновых лазерах, которые выполняют другие задачи, но не менее важны для работы оборудования.
Отмечается, что гелий-неоновые лазеры будут подходить под литографические степперы и сканеры производства Nikon и ASML. Также они смогут использоваться в установках контроля координат и критических размеров топологических элементов. На основе российской разработки могут быть созданы системы анализа дефектов полупроводниковых пластин и фотошаблонов. Ну и особенно важным станет работа оборудования для лазерного устранения дефектов и электронно-лучевой литографии. Таким образом гелий-неоновые лазеры будут использоваться как в модернизированном зарубежном оборудовании, так и в новых отечественных разработках. Российские специалисты пишут, что сегодня компания Keysight практически монополизировала рынок подобных систем. Разработка российских лазеров и фотоприемников станет важным шагом к полной независимости в сфере микроэлектроники.
Минпромторг выделил почти 500 млн рублей на создание оборудования для настройки отечественных литографов, которое должно быть готово к середине 2027 года. Эти меры позволят создать не только сами установки, но и ключевые компоненты для их работы. Добавим, что чипы, которые будут выпускаться на подобном оборудовании, окажутся востребованы в микроконтроллерах, силовой электронике, телекоммуникациях и автомобилестроении. По словам заместителя главы Минпромторга Василия Шпака, к 2024 году в России начнётся массовое производство микросхем по 350-нм нормам, а к 2026 году будут освоены и 130-нм нормы. Первый отечественный фотолитограф для производства чипов по 250-нм техпроцессу был создан Зеленоградским нанотехнологическим центром и белорусским «Планаром». В настоящее время он проходит испытания, а на смену ему идёт ещё более продвинутый литограф.
