Платим блогерам
Блоги
Zelikman
Данная машина способна создавать продукты по 8-нанометровому техпроцессу


  В конце 2023 года компания ASML начала поставки Intel своей первой системы литографии в крайнем ультрафиолете (EUV). В минувшие выходные Intel опубликовало видео, демонстрирующее установку этого аппарата на своем заводе недалеко от Хиллсборо, штат Орегон. Главным образом, машина будет использоваться в целях исследований и разработок.

реклама

  Модель ASML Twinscan EXE:5000 High-NA EUV действительно огромна. Для перевозки потребуется 250 ящиков, вес которых составляет около 150 тонн.

  Контейнер с аппаратом был перевезен грузовым самолетом из Нидерландов в Портленд, штат Орегон, а затем доставлен грузовиком на завод, где был установлен. Однако, для полной установки машины потребуется около шести месяцев и участие 250 инженеров ASML и Intel.

  Даже когда машина Twinscan EXE:5000 High-NA EUV будет полностью собрана, ее необходимо будет калибровать. Этот процесс займет недели, если не месяцы. Сначала инженерам придется активировать устройство, т.е. добиться взаимодействия фотонов с пластинами, что уже удалось инженерам ASML в Нидерландах с помощью их инструмента High-NA EUV в Фельдхофене.


  Мощная установка ASML High-NA EUV Twinscan EXE способна печатать с разрешением 8 нанометров, что существенно превосходит производительность имеющихся EUV-сканеров с низким числом апертуры, ограниченных разрешением 13 нанометров на одну экспозицию. Это достижение позволит создавать транзисторы примерно в 1.7 раза меньше сегодняшних размеров, что приведет к значительному увеличению плотности транзисторов. Использование инструмента Intel Twinscan EXE:5000 High-NA EUV будет полезно для изучения и применения технологии High-NA EUV. Компания планирует тестировать данную технологию с использованием технологического процесса Intel 18A, а затем внедрить ее для крупносерийного производства с помощью процесса Intel 14A.

  ASML сообщила о «10-20» заказах на свои машины High-NA EUV от таких компаний, как Intel, Samsung, SK Hynix и TSMC. Цена новой системы для изготовления микросхем High-NA EUV будет в два раза выше, чем у текущих систем для литографии Low-NA EUV, составлять примерно 380 миллионов долларов (350 миллионов евро). Однако точную цену будет определять конфигурация устройства. Генеральный директор Intel Пэт Гелсингер заявил, что машина стоит «около 400 миллионов».

+
Написать комментарий (0)

Популярные новости

Сейчас обсуждают