Как только Брайан Кржанич (Brian Krzanich) рассказал о намерениях Intel перенести сроки массового выпуска 10-нм процессоров со второго полугодия на неопределённый период 2019 года, аналитики на квартальной конференции забыли о всех прочих темах, и начали наперебой вытягивать из генерального директора корпорации откровения о причинах проблем, о которых независимые источники писали уже несколько месяцев подряд.

Если обобщить все комментарии Кржанича на эту тему, то выяснится, что 10-нм техпроцесс в производственной программе Intel является последним, не использующим так называемую EUV-литографию, а технологические возможности иммерсионной литографии уже достигают предела. При этом, Intel изначально поставила перед собой очень агрессивные цели по масштабу уменьшения линейных размеров полупроводниковых элементов. По сути, она планировала "ужать геометрию" на 10% сильнее, чем в случае со своим 14-нм техпроцессом. А если сравнивать с амбициями конкурентов, то целевые показатели Intel были установлены на 20% агрессивнее, чтобы добиться необходимой экономической отдачи от перехода на 10-нм техпроцесс. Достичь этого на практике пока не получается, уровень выхода годных 10-нм продуктов по-прежнему низок.

До сих пор Intel не удавалось выйти на целевые показатели в рамках 10-нм техпроцесса, иммерсионная литография на данном этапе жизненного цикла подразумевает использование многократного экспонирования и увеличения количества слоёв, всё это не лучшим образом влияет на уровень выхода годной продукции. Однако, Intel полна уверенности, что пути решения технологических проблем найдены, просто потребуется больше времени, чем планировалось. И у 10-нм техпроцесса будут три жизненных фазы: без "плюса", с "плюсом", а также с двумя "плюсами". Они растянутся на несколько лет, и позволят Intel сохранить технологическое лидерство, в принадлежность которого себе компания до сих пор верит. Глава корпорации надеется, что 10-нм техпроцесс, в конечном итоге, позволит увеличивать производительность продуктов в соответствии с ожиданиями.