На днях на отчётной конференции представители компании ASML — голландского производителя производственного оборудования для выпуска полупроводников — сообщили о прогрессе в деле разработки, совершенствования и производства сканеров для работы с 13,5-нм излучением или EUV. Реально массовое производство с использованием EUV-сканеров обещает начаться в 2020 году с практическим освоением 5-нм технологических норм. На деле использование EUV-сканеров начнётся раньше, но его нельзя будет назвать массовым.

В компании ASML ожидают, что для выпуска памяти с нормами 15-10 нм сканеры EUV будут обрабатывать два или больше слоёв. При выпуске процессоров и логики с нормами 7 или 5 нм сканеры EUV смогут обрабатывать 6-9 критически важных слоёв.

Только во втором квартале этого года ASML получила заявки на четыре EUV сканера и рассчитывает продать ещё не менее 12 штук в 2017 году. В 2018 году объёмы заказов должны составить не менее 24 EUV сканеров в год.

Пока всё упирается в относительно слабые источники излучения. Сегодня в лабораторных условиях ASML сканеры EUV развивают мощность 210 Вт. Для начала массового производства с использованием EUV-литографии мощность источника должна быть не меньше 250 Вт. Современные EUV-установки компании снабжаются источниками излучения всего 125 Вт. Мощности 125 Вт хватает на обработку 85 пластин в час, тогда как 250-Вт источник сможет обрабатывать за час до 125 пластин.

Также проблемой остаётся длительность непрерывной работы EUV-установок, хотя и здесь есть подвижки. До недавнего времени сканеры EUV в течение четырёхнедельного цикла могли работать только 80% времени. Совершенствование установок помогло поднять время использования сканеров до 90% времени и даже выше. И работы по улучшению сканеров продолжаются. В компании говорят, что использование EUV-установок сравнялось по себестоимости с проекцией 193-нм лазером с тройной проекцией. Иначе говоря, сканеры EUV могли бы оказаться выгодными даже для выпуска 10-нм чипов, для выпуска которых обычными средствами требуется три или четыре фотошаблона на один слой. Вот только переоборудование цехов под новые установки съест всю остальную выгоду, так что, да, реально EUV-сканеры заработают только через четыре-пять лет.