Генеральный директор Micron Санджей Мехротра (Sanjay Mehrotra) в пятницу принял участие в 34-ой конференции Bernstein , и это позволило нам создать некоторый запас информационных поводов для утра понедельника, которое удручало своим затишьем в преддверии начала работы Computex 2018.

Глава Micron в очередной раз вернулся к тезису о том, что освоение литографических технологий "1х-нм класса" не потребует перехода на использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Он признаёт, что каждая новая ступень техпроцесса даёт всё меньше преимуществ с точки зрения увеличения объёмов выпуска памяти и повышения её плотности, а также требует всё более крупных инвестиций. И тем не менее, внедрение EUV-литографии пока не считается экономически целесообразным – по крайней мере, в горизонтах планирования Micron на ближайшие годы.

Тридцать восемь лет работы в отрасли, по словам главы Micron, научили его тому, что инженеры рано или поздно находят приемлемое решение, поэтому за рамками самого "тонкого" техпроцесса этого поколения (1-бета) компания просто не строит планов в литографичекой сфере.

Генеральный директор Micron следом добавил, что освоение новых техпроцессов хоть и позволяет увеличить объёмы выпуска микросхем без строительства новых фабрик, некоторого расширения площадей требует. По крайней мере, площадь так называемых "чистых комнат" приходится увеличивать регулярно. Текущая модернизация японского предприятия по производству микросхем оперативной памяти потребует увеличения этих площадей на 10%. А сингапурское предприятие по выпуску памяти типа NAND получит на 35% больше "чистых комнат" в рамках грядущей модернизации под новую ступень техпроцесса.