Использовать EUV-литографию Intel не будет даже в рамках 7-нм техпроцесса

Чтобы поддерживать так называемый "закон Мура" в рамках технологии изготовления полупроводниковых изделий, большинство производителей рано или поздно перейдут на использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Поставщики оборудования в лице холдинга ASML утверждают, что говорить о массовом применении EUV-литографии можно будет лишь в рамках 5-нм техпроцесса, который будет освоен не ранее 2020 года. Однако, некоторые клиенты ASML и акционеры, по совместительству, допускают использование EUV-литографии при выпуске 7-нм изделий, и TSMC является одним из таких "передовиков".

На осенней сессии IDF 2016, которая начала работу вчера, как сообщает агентство Bloomberg, руководство Intel подтвердило отсутствие у компании планов по внедрению EUV-литографии не только в рамках 10-нм техпроцесса, но и в рамках 7-нм техпроцесса. Процессорный гигант вообще не будет торопиться с внедрением EUV-литографии до тех пор, пока технология не докажет свою эффективность. Впрочем, Марк Бор (Mark Bohr) выразил надежду, что рано или поздно компания всё же освоит EUV-литографию. Подобная неуверенность в высказываниях представителей Intel вызвала падение курса акций ASML на 3,5%.

Telegram-канал @overclockers_news - это удобный способ следить за новыми материалами на сайте. С картинками, расширенными описаниями и без рекламы.
Оценитe материал
рейтинг: 4.0 из 5
голосов: 15

Возможно вас заинтересует

Сейчас обсуждают