Платим блогерам
Редакция
Новости Hardware GreenCo
Лучше, быстрее, тоньше.

реклама

Итак, компания Samsung дала путёвку в жизнь полупроводниковой литографии с использованием сканеров EUV (с жёстким ультрафиолетовым излучением с длиной волны 13,5 нм). На первом этапе сканеры EUV будут использоваться для изготовления 3-4 критически важных слоёв. Подобные ограничения связаны в первую очередь с относительно низкой производительностью первых коммерческих сканеров ASML NXE:3400B. Теоретически NXE:3400B с источником излучения мощностью 250 Вт могут обрабатывать до 125 подложек в час или до 3000 подложек в сутки. На практике Samsung смогла увеличить мощность излучения до 280 Вт и обрабатывает в сутки до 1500 подложек.

Другим ограничением сканеров ASML NXE:3400B стала оптическая система сканеров с числовой апертурой 0,33. За один проход сканер NXE:3400B может отрисовать линию толщиной 7 нм и, возможно, 5 нм. Увеличение числовой апертуры оптической системы до 0,5 и выше позволит за один проход нарисовать линию толщиной 3 нм и даже тоньше. Но всё это — повышение источников излучения и улучшение оптики, а также защитные плёнки для кремния, фоторезист и многое другое ещё предстоит разработать. Именно на это почве бельгийский исследовательский центр Imec и нидерландская компания ASML на днях объявили о новом этапе сотрудничества.

реклама

Для совершенствования технологий производства чипов с использованием сканеров диапазона EUV и улучшения самих сканеров Imec и ASML на базе цента создадут несколько лабораторий и групп. В частности, будет создана лаборатория high-NA EUV research lab для разработки производства со сканерами с высоким значением числовой апертуры (NA). Повышение NA приведёт к приближению оптики к пластине до критических расстояний, что потребует изменения в конструкции сканеров и в механизмах транспортировки и фиксации пластин.

Для работы совместных групп Imec и ASML в чистую комнату центра завезён сканер ASML NXE:3400B, а в 2019 году к нему будет добавлен сканер NXT:2000i для работ с иммерсионной литографией (с погружением в жидкость). Лаборатория high-NA EUV research lab дополнительно получит сканер EXE:5000 с NA оптики, равной 0,55. Также исследователи получат фирменные инструменты ASML для обнаружения дефектов: оптический ASML YieldStar и лучевой HMI Multi-electron beam. Это не первый опыт совместной работы Imec и ASML. Партнёры и ранее выдавали на-гора интересные решения, а с новым оборудованием исследовательская работа станет ещё продуктивнее.

Написать комментарий (0)

Сейчас обсуждают