Intel готова начать производство 32 нм процессоров через год
Что характерно, на этот раз Intel не приводит количественных характеристик первых 32 нм продуктов, упоминая только об увеличении плотности размещения транзисторов, повышении производительности и энергетической эффективности. Впрочем, все эти данные могут быть обнародованы на следующей неделе на профильном мероприятии по имени IEDM в Сан-Франциско.
реклама
При производстве 32 нм процессоров Intel будет использовать материалы с высоким значением диэлектрической константы (high-k) второго поколения, и впервые прибегнет к иммерсионной литографии на оборудовании с длиной волны лазера 193 нм. Последнюю технологию AMD применяет уже в рамках 45 нм техпроцесса, но она не использует так называемые high-k диэлектрики. На следующей неделе Intel продемонстрирует рабочий образец ячейки памяти типа SRAM плотностью 291 Мбит, выпущенный по 32 нм технологии, и работающий на частоте 3.8 ГГц. Одновременно Intel расскажет о своих наработках в области подготовки к переходу на 22 нм техпроцесс.
Напомним вам, что первые 32 нм процессоры Intel под кодовым обозначением Westmere будут использовать архитектуру Nehalem, и только в 2010 году 32 нм техпроцесс начнёт соседствовать с новой архитектурой, уже в рамках семейства процессоров Sandy Bridge.
Соблюдение Правил конференции строго обязательно!
Флуд, флейм и оффтоп преследуются по всей строгости закона!
Комментарии, содержащие оскорбления, нецензурные выражения (в т.ч. замаскированный мат), экстремистские высказывания, рекламу и спам, удаляются независимо от содержимого, а к их авторам могут применяться меры вплоть до запрета написания комментариев и, в случае написания комментария через социальные сети, жалобы в администрацию данной сети.
Сейчас обсуждают