Компания ASML начнёт поставлять EUV-сканеры для 10-нм решений в середине 2015 года

В этом году при обсуждении перспектив рынка настольных видеокарт на нашем форуме и на других тематических ресурсах чаще всего поднимается вопрос о 20-нм графических процессорах. Перевод GPU на новый техпроцесс даёт возможность сравнительно быстро получить продукт с лучшей производительностью. Нам ведь надо сразу, не так ли? Ведь на создание новой и лучшей архитектуры необходимо значительно больше времени. И не факт, что она будет значительно лучше. Однако с 20 нм, похоже, производители "пролетают". Точнее, сочетание техпроцесса 20 нм и планарных транзисторов рискует стать быстротекущим событием, воспользоваться которым в полной мере успеет только компания Apple. Всем другим достанется 20-нм техпроцесс с использованием FinFET транзисторов, который компания TSMC называет 16-нм, а компании Samsung и GlobalFoundries — 14-нм.



У компании TSMC элемент вранья больше, у компании Samsung — меньше, но сути это не меняет. Все вокруг должны притворяться, что мы имеем дело вовсе не с 20-нм техпроцессом, а с новыми 16 или 14-нм нормами производства. Но это лирика, физика заключается в том, что компания ASML, чьи сканеры используются для обработки полупроводниковых пластин, твёрдо уверена, что техпроцесс 16 и 14 нм станет массовым со следующего года, а не с 2016. Так что у нас есть шанс увидеть 16/14-нм GPU достаточно быстро — уже в следующем году. Это наверняка скрасит долгое ожидание или даже полное отсутствие 20-нм продуктов.

Вообще, откровения руководства компании ASML были приурочены к такому событию, как отчёт о работе в третьем квартале календарного 2014 года. Как всегда, разработчик и производитель оборудования для полупроводниковой литографии поделился планами о поставке передовых сканеров. Сообщается, что клиенты компании получили шесть новейших машин NXE:3300, рассчитанных на работу с источником EUV-излучения: одна была отгружена в прошлом году, пять — в нынешнем. С середины следующего года начнётся отгрузка более совершенных EUV-сканеров NXE:3350, которых заказано шесть штук, также к тому времени три сканера NXE:3300 будут модернизированы до уровня NXE:3350.




Отметим, сканеры NXE:3300 несут источник излучения, способный создать EUV-поток, пригодный для обработки 200 пластин в течение суток. Полевые испытания показали, что замена источников излучения на новые и более мощные позволяет получить выход в количестве свыше 500 пластин в сутки (к примеру, такой эксперимент поставили в компании IBM, хотя он вызвал нарекания в своей чистоте). До конца года ASML рассчитывает модернизировать все поставленные и новые сканеры NXE:3300, позволив им обрабатывать свыше 500 пластин в течение 24 часов. Для начала коммерческого использования EUV-литографии необходимо обрабатывать свыше 1500 пластин в сутки. Этого уровня производительности сканеры ASML достигнут в 2016 году.




Ещё одной особенностью новых сканеров — NXE:3350 — станет то, что с их помощью можно начинать работать с 10-нм проекцией. Первая 10-нм пилотная линия заработает в середине 2015 года. Массовый выпуск 10-нм продукции компания ASML ожидает ближе к концу 2016 года. По мнению ASML, переход на EUV-сканеры значительно упростит производство полупроводников с передовыми нормами техпроцесса, что увеличит выход годной продукции и снизит себестоимость решений. Но с этим согласны далеко не все. Компания Intel, к примеру, собирается выпускать 10-нм процессоры с использованием 197-нм сканеров. Пусть это будет дороже, но если наступать на "грабли", то пусть они будут хотя бы знакомыми.

Telegram-канал @overclockers_news - это удобный способ следить за новыми материалами на сайте. С картинками, расширенными описаниями и без рекламы.
Оценитe материал
рейтинг: 4.4 из 5
голосов: 16

Комментарии Правила

Возможно вас заинтересует

Сейчас обсуждают