Нейроморфная инженерия является перспективным научным направлением, ведь все больше приложений опираются на искусственный интеллект, а будучи похожими на реальный мозг, нейроморфные чипы обладают существенными преимуществами в эффективности обучения, скорости вычислений и энергоэффективности. Intel работает в этом направлении, накануне компания представила второе поколение нейроморфного исследовательского чипа Loihi.
Loihi первого поколения дебютировал в 2018 году, тогда для его производства использовали 14-нм техпроцесс. Новый Loihi 2 использует пред-производственную версию технологии Intel 4 с применением литографии в жестком ультрафиолете. Плотность Loihi 2 до 15 раз выше, что позволяет разместить до 1 млн нейронов на площади 31 мм2, производительность нового чипа до 10 раз выше.
Спектр решаемых Loihi 2 задач существенно расширился с новыми методами обучения и полностью программируемыми моделями нейронов, поддерживающими до 4096 состояний. Новый нейроморфный чип работает с широким набором интерфейсов ввода-вывода, позволяя подключать разнообразные датчики, интегрироваться в различные системы и строить масштабные распределенные сети на основе Loihi 2. А открытая, модульная и расширяемая программная платформа Lava с кроссплатформенным выполнением дает возможность разрабатывать нейро-приложения без специализированного оборудования, на системах с обычными процессорами.
Пока познакомиться с Loihi 2 можно через облако Neuromorphic Research Cloud, в нем доступно решение Oheo Gulch на базе одночиповых плат. Более производительное и масштабируемое решение Kapoho Point, объединяющее в одной системе до 8 чипов, станет доступно позже.
Источник: Intel Newsroom, Loihi 2 Technology Brief (PDF).