Российские учёные представили масштабный план разработки собственного оборудования для передовой литографии. Дорожная карта развития установок для экстремального ультрафиолета рассчитана вплоть до 2037 года. Проект подготовлен Институтом физики микроструктур РАН.

Литографическое оборудование

Ключевой особенностью является принципиально иной подход. Российская разработка не повторяет архитектуру голландской компании ASML, лидера этого рынка, и предполагает использование уникальных технических решений: гибридных лазеров, ксеноновых плазменных источников света и специальных зеркал из рутения и бериллия. Такой подход позволяет избежать главной проблемы систем ASML — повреждения шаблонов частицами олова. Новая технология также не требует использования иммерсионных жидкостей под высоким давлением и многошаговой обработки.

Разработка будет вестись поэтапно. К 2028 году планируется создать машину для литографии 40 нм с производительностью пять пластин в час. Следующим шагом станет сканер для 14-нанонметровых техпроцессов с производительностью 50 пластин в час. Его ожидают к 2032 году. Финальная версия системы для норм менее 10 нм и производительностью более 100 пластин в час должна быть готова к 2036 году.

План развития литографии в России

Разработчики обещают более низкую стоимость производства по сравнению с установками ASML. Главной целью является обеспечение технологической независимости для России в производстве чипов. Однако, российская технология использует нестандартную длину волны 11,2 нм. Это потребует создания совершенно новой сопутствующей инфраструктуры. Реализуемость этого амбициозного плана ещё предстоит доказать на практике. В случае успеха российские установки могут привлечь внимание небольших международных производителей, которые не могут позволить себе дорогое оборудование ASML.