Intel, Samsung и Toshiba объединяют усилия в освоении 10 нм техпроцесса

Не раз мы говорили о том, что каждое новое поколение литографического техпроцесса не только бросает инженерам всё более серьёзный вызов, но и обходится производителям всё дороже. Даже крупные производители, обладающие достаточными техническим потенциалом и финансовыми возможностями, в этих условиях стараются объединяться в технологические консорциумы, в рамках которых они солидарно несут затраты и риски, связанные с подготовкой к переходу на новый техпроцесс.

Как сообщает агентство Reuters со ссылкой на японских коллег из Nikkei, компании Intel, Samsung и Toshuba решили объединить усилия в освоении литографических технологий с нормами менее 20 нм. Посредством кооперации компании надеются снизить риски в освоении к 2016 году технологических норм класса 10 нм. Samsung и Toshiba являются двумя крупнейшими производителями твёрдотельной памяти, компания Intel остаётся крупнейшим производителем процессоров. Полученные в рамках сотрудничества наработки компании собираются использовать в соответствующих сферах деятельности.



Министерство экономики, торговли и промышленности Японии уже выделило консорциуму свыше $61 млн. на первоначальные расходы по разработке новых технологических процессов, ещё столько же компании внесут в общий фонд из собственных средств. Остаётся надеяться, что промышленным гигантам удастся следовать намеченному плану по освоению новых ступеней литографической технологии.

Telegram-канал @overclockers_news - это удобный способ следить за новыми материалами на сайте. С картинками, расширенными описаниями и без рекламы.
Оценитe материал
рейтинг: 4.5 из 5
голосов: 107

Возможно вас заинтересует

Сейчас обсуждают