Intel, Samsung и Toshiba объединяют усилия в освоении 10 нм техпроцесса

Не раз мы говорили о том, что каждое новое поколение литографического техпроцесса не только бросает инженерам всё более серьёзный вызов, но и обходится производителям всё дороже. Даже крупные производители, обладающие достаточными техническим потенциалом и финансовыми возможностями, в этих условиях стараются объединяться в технологические консорциумы, в рамках которых они солидарно несут затраты и риски, связанные с подготовкой к переходу на новый техпроцесс.

Как сообщает агентство Reuters со ссылкой на японских коллег из Nikkei, компании Intel, Samsung и Toshuba решили объединить усилия в освоении литографических технологий с нормами менее 20 нм. Посредством кооперации компании надеются снизить риски в освоении к 2016 году технологических норм класса 10 нм. Samsung и Toshiba являются двумя крупнейшими производителями твёрдотельной памяти, компания Intel остаётся крупнейшим производителем процессоров. Полученные в рамках сотрудничества наработки компании собираются использовать в соответствующих сферах деятельности.

Министерство экономики, торговли и промышленности Японии уже выделило консорциуму свыше $61 млн. на первоначальные расходы по разработке новых технологических процессов, ещё столько же компании внесут в общий фонд из собственных средств. Остаётся надеяться, что промышленным гигантам удастся следовать намеченному плану по освоению новых ступеней литографической технологии.