Intel, Samsung и Toshiba объединяют усилия в освоении 10 нм техпроцесса
Как сообщает агентство Reuters со ссылкой на японских коллег из Nikkei, компании Intel, Samsung и Toshuba решили объединить усилия в освоении литографических технологий с нормами менее 20 нм. Посредством кооперации компании надеются снизить риски в освоении к 2016 году технологических норм класса 10 нм. Samsung и Toshiba являются двумя крупнейшими производителями твёрдотельной памяти, компания Intel остаётся крупнейшим производителем процессоров. Полученные в рамках сотрудничества наработки компании собираются использовать в соответствующих сферах деятельности.
реклама
Министерство экономики, торговли и промышленности Японии уже выделило консорциуму свыше $61 млн. на первоначальные расходы по разработке новых технологических процессов, ещё столько же компании внесут в общий фонд из собственных средств. Остаётся надеяться, что промышленным гигантам удастся следовать намеченному плану по освоению новых ступеней литографической технологии.Соблюдение Правил конференции строго обязательно!
Флуд, флейм и оффтоп преследуются по всей строгости закона!
Комментарии, содержащие оскорбления, нецензурные выражения (в т.ч. замаскированный мат), экстремистские высказывания, рекламу и спам, удаляются независимо от содержимого, а к их авторам могут применяться меры вплоть до запрета написания комментариев и, в случае написания комментария через социальные сети, жалобы в администрацию данной сети.
Сейчас обсуждают