Китай давно уже стал мировой мастерской, значительная часть материальных благ производится на его территории. Огромное количество предприятий разместили там свои заводы, либо инвестировали в местное производство с целью дальнейшего размещения заказов. Китай стремиться производить всё - от туалетной бумаги до морских судов. Само собой, в последние годы особый интерес у китайского правительства и промышленников вызывает растущий невероятными темпами рынок микроэлектроники. Человечество уверенно движется в светлое цифровое будущее, потребности в данном виде продукции растут так, что порой даже самые крупные производители не в состоянии удовлетворить спрос.
Но на заднем фоне всего этого великолепия и технического рая всегда маячила серьёзная проблема - трагичное отставание в вопросах создания средств производства. В частности - литографических сканеров, которые, собственно и занимаются превращением пластины кремния в набор микросхем. Если лет 30 назад в мире было несколько производителей такого оборудования, подающих надежды, то затем один из них, благодаря мощной финансовой и технологической поддержке из США совершил огромный шаг вперёд и, фактически, стал монополистом на рынке передового оборудования для фотолитографии. Речь, конечно, о нидерландской компании ASML, единственной на данный момент способной серийно выпускать готовые к промышленному применению сканеры для передовых техпроцессов с нормами меньше 32 нм.
Учитывая явное стремление США к сдерживанию развития технологии в Китае, было ожидаемо, что в данном направлении были предприняты серьёзные меры и рано или поздно передовое оборудование китайского производства должно было появиться. Всеми любимые и ценимые эксперты прогнозировали, что догнать ASML можно за 30-50 лет, настолько далеко они оторвались от конкурентов. Но похоже, Китай вновь готов совершить невозможное.
Компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) планирует в ближайшие 2-3 года начать выпуск иммерсионных сканеров для производств с нормами вплоть до 32/28 нм. Казалось бы, это очень отсталая технология на фоне пресловутых EUV и грядущих 5 нм, которые уже скоро сойдут с конвейера TSCM, однако то, с какой скоростью SMEE переходит от технологий 90 нм сразу к 28, заставляет пересмотреть все представления об уровне технологического отрыва ASML. Кроме того, SMEE, в отличии от ASML производит всё необходимое для производства оборудование, в том числе линии по тестированию и упаковке чипов, то есть может в одиночку укомплектовывать заводы полного цикла под ключ.
Да, впереди у китайцев стоит сложнейшая задача - освоение фотолитографии в глубоком ультрафиолете, на которую у ASML и американских ВУЗов ушли долгие годы, даже при финансовой поддержке правительства и Intel. Но, глядя на технологические успехи Китая за последние 20 лет, создаётся впечатление, что их потенциал очень сильно недооценивали. Пожалуй, опасения Вашингтона на тему того, что в ASML, TSMC, Intel, AMD и прочих лидерах индустрии работает слишком много этнических китайцев, а так же проходят практику азиатские студенты, были не напрасны. Да, скорее всего, китайцы поступили в свойственном им стиле - скопировали и адаптировали чужие достижения. Но какое это будет иметь значение в конечном итоге? Сейчас ясно одно - политика сдерживания развития Китая терпит крах, и либо США пойдёт на более отчаянные меры, а нас ждёт замедление темпов развития технологий микроэлектроники, либо Китай выйдет в этой схватке победителем, и мы станем свидетелями нового технологического рывка.
