Холдинг ASML, выпускающий литографическое оборудование для производства микропроцессорных компонентов, открыл сезон квартальных отчётов. Безусловно, сама квартальная отчётность производителя такой специфической техники вряд ли заинтересует дорогого читателя, но некоторые выявленные на отчётном мероприятии тенденции заслуживают упоминания.

Начнём с того, что технологическое перевооружение производителей в свете перехода на так называемую EUV-литографию идёт полным ходом. Из пятидесяти новых заказанных во втором квартале литографических сканеров, для производства с использованием EUV-литографии были предназначены десять систем. Фактически во втором квартале было продано семь EUV-сканеров. Некоторые из этих систем, как утверждают заказчики ASML, будут использоваться для производства микросхем памяти.

Вообще, ASML пока не считает возможным возврат рынка памяти к росту объёмов выпуска – до конца текущего года, как минимум. Однако, использование литографического оборудования для производства прочих компонентов будет расширяться, и это позволит компенсировать застой в сегменте памяти. В среднем, для производства памяти должны использоваться около 40% новых сканеров, заказанных клиентами у TSMC в первом полугодии.

Представители Micron в своё время аргументированно доказывали низкую целесообразность использования EUV-литографии для производства микросхем памяти. ASML эту точку зрения не разделяет, да и наличие профильных заказов на оборудование со стороны неких производителей памяти это подтверждает. Представители холдинга утверждают, что выпуск памяти с использованием EUV не только оправдан экономически, но и позволяет добиться повышения быстродействия конечной продукции. По их словам, со временем при производстве микросхем памяти могут использоваться до пяти слоёв, полученных при помощи литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением.