реклама
Трудности Intel с освоением 10-нм технологии, по мнению цитируемых ресурсом EE Times экспертов Bernstein, могут оказаться не единственной проблемой, с которой процессорному гиганту предстоит столкнуться в ближайшие годы. Как ожидают отраслевые аналитики, проявлявшая интерес к внедрению EUV-литографии с девяностых годов прошлого века компания может оказаться в числе последних, кто её в итоге освоит. По крайней мере, сейчас эксперты имеют основания утверждать, что до конца 2021 года Intel вряд ли внедрит на своём производстве литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением.
реклама
GlobalFoundries планировала использовать EUV-литографию в рамках 7-нм технологии, но недавно отказалась от освоения последней на неопределённый срок. TSMC начнёт применять элементы EUV в рамках второго поколения 7-нм техпроцесса в следующем году, но не более нескольких слоёв. Samsung задержится на несколько месяцев относительно TSMC, но сразу внедрит EUV-литографию для 7-8 слоёв, как ожидают специалисты. TSMC внедрит EUV в серийном производстве во второй половине следующего года. Пока предложение TSMC выглядит лучшим по сравнению с Samsung, поскольку её версия 7-нм техпроцесса предлагает более высокую производительность, более низкое энергопотребление, а также более высокую плотность размещения транзисторов. Сможет ли Samsung догнать конкурента за счёт более агрессивного внедрения EUV-литографии, сейчас с уверенностью сказать сложно.