О графике освоения компанией Intel очередных ступеней литографического техпроцесса мы последний раз слышали в начале мая. Тогда взору общественности открылась перспектива до 2015 года включительно – компания рассчитывает к этому времени освоить 10 нм техпроцесс.

На этой неделе Intel провела мероприятие по имени Research@Intel, в рамках которого первые лица компании рассказали о планах на будущее и перспективных разработках. График освоения новых ступеней литографического техпроцесса был продлён за пределы 2015 года – теперь Intel открыто указывает, что в 2017 году планирует освоить 7 нм технологические нормы.

Между тем, полный перечень технологий, которые позволят выпускать полупроводниковые элементы подобных размеров, ещё не определён. Intel не исключает, что в этом десятилетии начнёт использовать соединения германия, оптические межсоединения, вычислительную литографию, нановолокна, а также синтезируемые на молекулярном уровне материалы нового типа.