В этом квартале, как ожидается, вступят в силу новые экспортные ограничения со стороны властей Нидерландов, которые лишат компанию ASML снабжать своих китайских клиентов расширенным ассортиментом литографических сканеров. По информации DigiTimes, эта компания не готова терять китайский рынок, а потому собирается модифицировать сканеры серии TWINSCAN NXT:1980, пригодные для работы с DUV-литографией, чтобы те можно было поставлять в Китай, но при этом нельзя было использовать для производства чипов по технологическим нормам тоньше 28 нм.

По всей видимости, новые санкции Нидерландов проведут «водораздел» как раз по линии 28 нм, что заметно ограничивает возможности китайских производителей чипов, ведь ранее санкции касались преимущественно 14-нм и более прогрессивных техпроцессов. Конечно, октябрьская редакция санкций США варьировала техпроцессы в зависимости от сферы их применения, и если оперативную память китайским производителям разрешалось выпускать по технологиям грубее 18-нм, то в сегменте логических микросхем граница проходила по отметке 14 нм.
Если ASML удастся предложить китайским клиентам оборудование для работы с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV), но без возможности перехода на нормы тоньше 28 нм, то это позволит китайским производителям пользоваться довольно эффективными литографическими сканерами без риска считаться нарушителями санкций Нидерландов и США.