Из числа производителей памяти громче всех о внедрении EUV-литографии говорит Micron, но в не совсем типичном контексте – компания убеждена, что сможет обходиться без этой технологии примерно до 2022-2023 годов, поскольку пока литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением остаётся дорогим удовольствием. ASML, которая выпускает профильное оборудование, отмечает рост количества заказов на EUV-сканеры со стороны производителей памяти. Кто же их приобретает?

Начнём с того, что компания SK Hynix на минувшей квартальной отчётной конференции заявила о намерениях внедрить EUV-литографию в рамках техпроцесса 1α нм, который будет освоен к началу 2021 года. Годом позже будет освоен техпроцесс 1β нм, в рамках которого применение EUV-литографии будет расширено.

Samsung в этом смысле всех основных конкурентов опережает. Ещё в рамках техпроцесса 1z нм в конце этого года EUV-литография будет применяться при производстве микросхем оперативной памяти в качестве эксперимента, не более одного слоя. Уже в рамках 10-нм техпроцесса четвёртого поколения (1α нм) в следующем году количество обрабатываемых при помощи EUV слоёв будет увеличено до четырёх. По словам представителей компании, переход на EUV позволит снизить сложность технологической оснастки и производства памяти на 50%.