Одной из угроз, с которой Intel приходится сталкиваться в настоящее время, является возможное прекращение действия так называемого закона Мура. Это правило, выведенное соучредителем Intel Гордоном Муром, гласит, что количество транзисторов, которое может быть экономически эффективно размещено в микросхеме, будет удваиваться каждые два года.

Между тем, постепенное уменьшение топологических норм приведёт к созданию транзисторов настолько малых, что для описания их работы потребуется прибегнуть к квантовой механике. Как пишет издание Business Insider, генеральный директор Intel Брайан Кржанич (Brian Krzanich) считает, что потенциальным решением назревающей проблемы станет фотолитография в глубоком ультрафиолете (EUV).

Нужно заметить, что Intel много говорит об этой технологии и инвестирует немалые средства в её развитие, но строить планы и готовить презентации проще, чем заставить новую технологию работать в промышленных масштабах. К технологии EUV компания начала присматриваться ещё в 1997 году, но реальные сдвиги в этом направлении наметились только 12 лет спустя, когда ASML удалось разработать источник, способный давать свет с нужной длиной волны. А прошлым летом Intel решила поддержать ASML и вложила в разработчика литографического оборудования $4.1 миллиарда.

В 2014 году Intel начнёт производство процессоров Broadwell по 14-нм технологии, к 2015 году компания надеется освоить уже 10-нм топологические нормы. Следующим шагом, запланированным на 2017 год, должно стать "уменьшение" до 7 нм и переход на EUV-литографию, и, если всё пройдёт гладко, Intel продолжит идти проторенной дорогой в соответствии с законом Мура, продолжая экстенсивно наращивать мощь своих решений.

В противном случае, к концу десятилетия нас ждёт, пожалуй, одно из самых значимых событий в области микроэлектроники за последние полвека.