На нашей планете всего около десятка государств располагают возможностью разрабатывать и создавать микросхемы. Теперь к ним присоединилась и Россия. Это очень важный шаг как в плане импортозамещения, там и огромный скачок в развитии компьютеризации страны.
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) совместно с белорусскими специалистами создали фотолитограф для производства микросхем с разрешением 350 нм. С белорусской стороны участие принимала компания «Планар». Сообщается, что наш аппарат использует твердотельный лазер, а не ртутные лампы, как иностранные аналоги.
На сегодняшний день 350-нм техпроцесс считается морально устаревшим, поскольку американцы его освоили ещё в середине 1990-х годов. Хотя ранее в создании компьютеров, как и аналога интернета, лидировал СССР.
Сегодня 350-нм техпроцесс может применяться в автомобильной промышленности и военной сфере. Стало известно, что ЗНТЦ параллельно занимается разработкой более продвинутого фотолитографа, уже для 130-нм техпроцессов, его запуск анонсировали примерно к 2026 году.
Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев раскрыл некоторые особенности нашей новинки. Оказалось, что она превосходит свои иностранные аналоги по нескольким параметрам. Была увеличена площадь рабочего поля (22×22 мм против 3,2×3,2 мм), а также вырос максимальный диаметр обрабатываемых пластин (200 мм против 150 мм). Но ключевой его фишкой стало применение в качестве источника излучения не ртутной лампы, а твердотельного лазера. Это первый в мире подобный эксперимент, завершившийся успешно. Твердотельный лазер отличается большей мощностью, энергоэффективностью и долговечностью, что увеличит срок службы фотолитографа и позволит разработать на своей основе более совершенное оборудование.
Согласно заявлению мэра Москвы, разработка фотолитографа велась совместно с белорусским заводом, имеющим большой опыт в данной области. А значит это разработка не полностью отечественная. В данном случае, это аналог советских достижений, когда лучшие умы всех 16 республик решали совместные проблемы. Сейчас главное — выход на полную независимость от западных санкций.
|
|
|
В 2025 году 350-нм техпроцесс уже морально устарел, поскольку ещё в середине 1990-х годов он использовался компанией Intel для создания процессоров Pentium MMX, Pentium Pro и ранних модификаций Pentium II. На этом же техпроцессе, их конкурент, компания AMD, в 1997 году наладила выпуск своего процессора K6.
На сегодня самые передовые чипы производятся по технологии 2 нм, разработанные компаниями TSMC и Samsung. В то время как российские производители микросхем «Ангстрем» и «Микрон» применяют техпроцессы 250-90 нм, используя при их производстве иностранное оборудование. Поэтому новый фотолитограф изначально не предназначался для закрытия текущих потребностей крупных отечественных предприятий. Это скорее опытный образец с довольно узким практическим применением, изначально отстающий на несколько десятилетий, но без него невозможно дальнейшее развитие российской индустрии производства микросхем.
На текущий момент ЗНТЦ уже работает над фотолитографом для 130-нм техпроцессов, а ранее анонсировалась так называемая «дорожная карта», по которой планировалось освоить 90-нм к 2025 году (уже не успевают), 28-нм к 2027-му и 14-нм к 2030-му. Но реальность вносит свои коррективы и российская наука пока не успевает к данным срокам.
Новость конечно приятная, но ранее мы уже регулярно сталкивались с хорошими инициативами, которые быстро затухали по тем или иным причинам. Рассмотрим, что следует делать, для дальнейшего развития отрасли в России:
Пожелаем удачи нашим специалистам и будем надеяться общего развития промышленности до того уровня, который ранее был достигнут в СССР. Когда мы не зависели от параллельного импорта и сами производили не только вооружение.
Напишите в комментариях, что вы думаете по данному поводу? Насколько эта технология является прорывной и востребованной, какие перспективы нас ждут в ближайшие годы?
Ещё больше интересных статей читайте в блоге «Подводные камни техномира» (ссылка кликабельна).