САНТА-КЛАРА (Калифорния), 11 августа 2014 г. – Intel опубликовала информацию о новой микроархитектуре, оптимизированной с помощью передового 14-нанометрового производственного процесса. Новые технологии обеспечат высокую производительность и энергоэффективность для использования в различных областях применения, начиная с инфраструктур облачных вычислений и концепции «Интернета вещей» и заканчивая персональными и мобильными вычислениями.
«Комплексная модель корпорации Intel, которая подразумевает объединение нашего опыта проектирования и передового производственного процесса, позволяет предложить заказчикам продукцию, которая демонстрирует более высокую производительность при низком уровне энергопотребления, – сказала Рани Боркар (Rani Borkar), вице-президент Intel и генеральный директор по разработке новой продукции. – Новая микроархитектура – это не просто выдающееся достижение в области высоких технологий. Это демонстрация важности нашей концепции проектирования, которая позволяет предложить решения, которые смогут удовлетворять растущие потребности заказчиков».
«В 14-нанометровой технологии Intel используется второе поколение транзисторов Tri-Gate для того, чтобы обеспечить ведущие показатели производительности, энергоэффективности, плотности размещения и стоимости на один транзистор, – сказал Марк Бор (Mark Bohr), старший заслуженный исследователь Intel, подразделение Technology and Manufacturing Group, и руководитель подразделения Process Architecture and Integration. – Инвестиции Intel и приверженность закону Мура лежат в основе того, что наши специалисты смогли добиться с помощью нового производственной технологии».
Дополнительные сведения ищите на http://intel.ly/1sEBd1e