Недавно РФ выделила более 240 млрд рублей ($2,54 млрд) на реализацию комплексной инициативы, направленной на замену иностранного оборудования для производства микросхем к 2030 году. Эта амбициозная программа включает создание 110 научно-исследовательских и опытно-конструкторских проектов, призванных снизить зависимость страны от импортных полупроводниковых инструментов и разработать собственный технологический процесс класса 28-нм.

В настоящее время российские полупроводниковые компании, в том числе "Микрон", могут производить чипы на уже устаревших стандартах, таких как 65 и 90-нм.

Новая программа охватывает множество аспектов производства микросхем, включая производственные инструменты, сырье и программное обеспечение для автоматизации электронного проектирования. Проект предусматривает разработку 20 различных технологических направлений, нацеленных на прогресс в таких областях, как микроэлектроника (от 180-нм до 28-нм), фотоника и силовая электроника.

Одним из ключевых этапов, ожидаемых к 2026 году, является разработка литографического оборудования для 350-нм и 130-нм техпроцессов.

К 2030 году планируется создать отечественные литографические системы, способные обрабатывать пластины с технологическими узлами 65 или 90-нм. Это станет значительным шагом вперед в развитии полупроводникового потенциала.