Нидерландская ASML и немецкая Carl Zeiss рассчитывают создать новое поколение оборудования для производства полупроводников примерно в течение десяти лет. Технология под названием Hyper NA должна прийти на смену наиболее передовым литографическим системам High NA EUV и позволит формировать элементы микросхем размером до 5 нанометров. Это более чем на треть меньше, чем возможности нынешнего поколения оборудования.
Источник изображения: Reuters
URL изображенияЛитография по-прежнему остаётся ключевым этапом производства современных процессоров, поскольку с её помощью создаются сложные схемы транзисторов и соединений. Уменьшение элементов позволяет размещать больше компонентов на одной площади, повышать производительность чипов и снижать энергопотребление. Это, в свою очередь, главный двигатель прогресса, особенно, когда речь идёт об искусственном интеллекте (ИИ), увеличившим спрос на чипы.
Как сообщает Reuters, новая технология будет не так сильно отличаться от актуального EUV-оборудования, а двухэтажный станок не обзаведётся ещё одним этажом. Несмотря на начало разработки, ASML пока не взяла на себя обязательств по запуску Hyper NA в серийное производство, поскольку все процессы находятся на начальном этапе.
В настоящее время наиболее передовым EUV-оборудование считается класс High NA, которым уже пользуется Intel, но не для полного цикла чипа, а для формирования отдельных слоёв в процессорах.
