Китай отстаёт примерно на 10-15 лет от мировых лидеров в разработке передовых инструментов для производства микросхем. Об этом сообщает издание Bloomberg, ссылаясь на источник, связанный с нидерландской компанией ASML, которая производит передовую EUV-литографию.Источник изображения: ChatGPTОсновная причина отставания Китая – отсутствие технологий EUV-литографии, без которых выпуск современных чипов для искусственного интеллекта и высокопроизводительных вычислений попросту невозможен. Китайские производители хотя и имеют экспериментальные EUV-станки, они по-прежнему сосредоточены на более старых технологиях, включая DUV-литографию.

Даже существующие китайские экземпляры EUV-станков, по данным Bloomberg, уступают западным технологиям и не готовы к массовому выпуску передовых чипов. Вероятно, преодолеть этот разрыв удастся только к 2040 году, если уровень инвестиций в отрасль останется высоким.

В заключении Bloomberg сводится к тому, что в краткосрочной перспективе Китаю не удастся обогнать США и Европу в производстве передовых микросхем, хотя при должных инвестициях и усилиях это всё-таки можно в долгосрочном порядке.