Китайские специалисты в Шэньчжэне создали прототип машины для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне — ключевого этапа при выпуске самых продвинутых микросхем. По информации Reuters, устройство проходит тесты и генерирует нужное излучение.
О прототипе EUV-установки стало известно благодаря расследованию агентства Reuters. Система, завершенная в начале 2025 года, занимает почти весь производственный цех в строго охраняемой лаборатории. Китайские инженеры сумели наладить генерацию коротковолнового ультрафиолетового света, который требуется для фотолитографии на уровне современных передовых чипов.
Этот тип оборудования используется для нанесения очень тонких схем на кремниевые пластины. Сегодня такие машины практически полностью контролирует голландский производитель ASML, и экспорт их в Китай ограничен западными санкциями. По сообщениям источников, в разработке прототипа участвовали бывшие инженеры ASML, а часть деталей получали с рынка бывшего оборудования. Важно понимать: пока китайская разработка не производит готовые микросхемы. Прототип находится на этапе испытаний, и специалисты пока оценивают параметры и стабильность работы установки. Цель Пекина — довести технологию до уровня, когда она сможет выпускать чипы, ориентировочно к 2028 году.
Машина значительно крупнее коммерческих аналогов, и ей еще предстоит пройти длинный путь до практического применения в массовом производстве. Основные трудности — точность оптических систем и стабильность процессов, ключевых для высокоточного нанесения структур на пластину. Пока устройство остается экспериментальным, китайские власти продолжают работу над собственным полупроводниковым сектором, стремясь создать полностью независимую цепочку поставок и уменьшить влияние внешних ограничений на свою индустрию.