Новые «3D»-чипы для ПК могут продлить действие закона Мура на годы вперед

Ученые из США продемонстрировали многослойный кремниевый чип, который создается без повреждения нижних слоев. Подход может поддержать дальнейший рост плотности транзисторов, который лежит в основе закона Мура.
7 июня 2026, воскресенье 18:55
Global_Chronicles для раздела Блоги

Производители микросхем все ближе подходят к пределам традиционной плоской компоновки. Свободного места на кристаллах становится меньше, а дальнейшее уменьшение транзисторов дается все сложнее.

Изображение: ScienceAlert

Авторы новой работы из Университета Иллинойса (University of Illinois Urbana-Champaign, США) предложили решать эту проблему не за счет уменьшения компонентов, а за счет размещения их друг над другом. По сути, вычислительные схемы и память получают дополнительное пространство в вертикальном направлении.

Такой подход напрямую связан с законом Мура, который предполагает регулярное увеличение числа транзисторов на микросхемах при сохранении стоимости производства. Чем больше транзисторов удается разместить на кристалле, тем выше вычислительные возможности устройства.

Ранее многослойные чипы сталкивались с серьезным препятствием. Производство полупроводников требует нагрева примерно до 1000 градусов Цельсия, поэтому формирование нового уровня могло повредить уже готовые слои.

Группа Цин Цао (Qing Cao) решила эту задачу с помощью беспереходных транзисторов и сверхтонких кремниевых наномембран. Часть технологических операций специалисты выполнили заранее, а сами мембраны наносили при температуре ниже 200 градусов. Кроме того, гибкая структура материала помогла снизить количество дефектов между слоями.

В ходе испытаний команда собрала трехслойную систему с работающими логическими схемами и ячейками памяти. Разработчики отмечают, что архитектура допускает дальнейшее увеличение числа уровней. Пока технология требует более высокого напряжения питания, однако созданная конструкция уже подтвердила возможность монолитной 3D-интеграции на основе стандартного монокристаллического кремния.