На этой неделе на домашнем мероприятии Samsung Foundry Forum южнокорейский чипмейкер доложил о разработке двух дополнительных техпроцессов в рамках 14- и 10-нм производства полупроводников. Это техпроцессы 14LPU и 10LPU. Пакеты разработчиков для проектирования микросхем с использованием техпроцессов 14LPU и 10LPU будут доступны примерно через полгода — во втором квартале 2017 года. Соответственно, цифровые проекты первых решений для данных техпроцессов будут готовы к концу 2017 года, а в устройствах они появятся примерно к концу 2018 года или в первой половине 2019 года. Что же это за техпроцессы?

Техпроцесс 14LPU относится к четвёртому поколению 14-нм техпроцессов. По сравнению с 14-нм техпроцессом третьего поколения (14LPC) новый техпроцесс обеспечивает повышенную производительность чипов без повышения энергопотребления. Исходя из этого, техпроцесс 14LPU нацелен на выпуск микросхем для повышенных вычислительных нагрузок, включая "тяжёлые" серверные нагрузки.

Техпроцесс 10LPU является третьим поколением 10-нм техпроцессов компании. По сравнению с техпроцессами 10LPE и 10LPP новая разработка поможет уменьшить площадь кристалла без влияния на производительность и потребление. Поскольку дальнейшее снижение масштаба техпроцесса сопряжено с трудностями и ограничением возможностей литографических сканеров, техпроцесс 10LPU может оказаться самой выгодной альтернативой для конкурирующих предложений. Данный техпроцесс подойдёт для выпуска самого широкого спектра чипов — от мобильных решений до компьютерных и бытовых.

Наконец, Samsung показала кремниевую пластину с 7-нм опытными микросхемами, для создания которых была применена EUV-литография (сверхжёсткий ультрафиолетовый диапазон). Иначе говоря, она надеется на продолжительную эксплуатацию техпроцесса 10LPU, но также тратит силы и средства на подготовку следующего шага.