Платим блогерам
Редакция
Новости Hardware Алексей Сычёв
Раньше, чем при производстве процессоров.

реклама

Компания Micron, которая в сфере производства твердотельной памяти является близким партнёром Intel, недавно выступила с заявлением об отсутствии необходимости внедрения литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) в рамках технологических процессов так называемого "10-нм класса" – от 19-нм до 10-нм, если рассматривать пределы. Во всяком случае, при производстве памяти в комбинации с этими техпроцессами EUV-литография не должна потребоваться, как убеждено руководство Micron.

Холдинг ASML, который занимается выпуском необходимого для производства полупроводниковых изделий литографического оборудования, сегодня уже выступил с квартальным отчётом, определённую часть доклада посвятив успехам в подготовке к переходу на применение EUV-литографии. Компания подчёркивает, что интерес к EUV-оборудованию демонстрируют как производители логических микросхем и процессоров, так и производители памяти. Один из аналитиков поинтересовался у генерального директора ASML, в какие сроки EUV-литография будет внедрена при производстве микросхем памяти.

реклама

Похвалив аналитика за хороший вопрос, глава ASML Петер Веннинк (Peter Wennink) пояснил, что производители памяти уже сейчас применяют многоэтапное структурирование, и рано или поздно данный метод усложнит им жизнь настолько, что выгоднее будет перейти на EUV-литографию. Случится это, по мнению главы ASML, в районе периода внедрения 14-15-16-нм техпроцессов. Плотность размещения элементов вырастет настолько, что это заставит производителей памяти перейти на литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением.

Напомним, что в сфере производства процессоров EUV-литографию Samsung и GlobalFoundries обещают частично внедрить уже в рамках 7-нм технологии в 2018 году, а Intel и TSMC предпочитают дождаться перехода на 5-нм техпроцесс. Это не освобождает клиентов ASML от необходимости начинать закупку EUV-оборудования уже сейчас. Но об этом мы поведаем в отдельном материале.

Показать комментарии (2)

Сейчас обсуждают