Недавно компания Intel опубликовала в свободном доступе два видео: первое про дизайн чипов, а второе про их производственный процесс. Всем наверняка известно, что во время разработки 10-нм техпроцесса компания припустилась невероятного количества ошибок, в конце концов замедливших её развитие в этой области. О многих из них и рассказано во втором ролике.

Оба видео не имеют никаких сложных математических данных или таблиц. Смотреть их приятно и интересно. Общая длительность - 4 минуты и 43 секунды. С самого начала и до 1:50 разработчики не стали вдаваться в сложные детали, всего лишь высветив красивые кадры создания чипов, за то дальше показана сложная технология создания транзисторов. Там же была показана и славно известная технология FinFET, позволяющая создавать 16-нм элементы. Далее разработчики описали большое количество шагов, которые нужно проделать для создания одного лишь транзистора. 

Где-то после 3:10 демонстрируется совершенно новая, на то время, технология COAG, которая кардинально поменяла всё представление о транзисторах и их возможном размере. При её использовании сильно уменьшилась общая площадь, но увеличилась плотность. После этого нам даётся информация об очень сложной системе соединений между транзисторами. Завершается видео показом всех тех мест, где чипы Intel пользуются востребованностью.