Используемое в производстве микросхем и процессоров литографическое оборудование имеет определённый спектр технологических возможностей, за пределами которого оно подлежит замене на более совершенное. Для производителя полупроводниковой продукции такая замена оборудования сопряжена с масштабными затратами и риском возникновения простоев.

Компания IBM уже заявляла о получении первых образцов ячеек памяти типа SRAM, выпущенных по 22 нм технологическим нормам. Недавно этот производитель поделился дополнительными подробностями о методах производства 22 нм чипов. Как выясняется, выпускать 22 нм микросхемы IBM может без существенной модернизации существующего технологического парка. Для корректировки формы фотомаски и характеристики источника света планируется использовать продвинутое программное обеспечение, которое позволит создавать транзисторы нужных размеров на существующем оборудовании. Технология получила название Computational Scaling - "вычислительное масштабирование".

Когда IBM и её партнёры займутся серийным выпуском 22 нм чипов, не уточняется. Скорее всего, это случится не ранее 2011 года. Приятно осознавать, что технический прогресс и действие известного Закона Мура не останавливаются, и производители получают возможность создавать всё более сложные и производительные процессоры.